04
2023
-
09
MPCVD金刚石沉积设备装置的结构和分类
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MPCVD金刚石沉积设备装置通常分为微波系统、真空系统、供气系统和等离子体反应腔四大部分。
MPCVD金刚石沉积设备装置通常分为微波系统、真空系统、供气系统和等离子体反应腔四大部分。
微波系统由微波功率源、环行器、水负载、阻抗调配器组成。
真空系统由真空泵、真空阀门和真空测量仪器组成。
供气系统由气源、管道和控制气体流量的阀和流量计等组成。
这三个部分各自都是通用型的，可以适用于各种类型的MPCVD装置。
等离子体反应腔包括微波与等离子体的耦合器、真空沉积室以及基片台等。
不同类型的MPCVD金刚石沉积设备装置的区别在于等离子体反应腔形式的不同。按腔体的形状来区分，大体可分为矩形、椭球形和圆柱形谐振腔MPCVD装置三类。按微波等离子体谐振腔电场产生的模式来区分，大体上可以分为单模谐振腔和多模谐振腔MPCVD装置。
另外，根据微波频率的不同，可以将MPCVD金刚石沉积设备装置分为2.45GHz和915MHz两类。由于谐振腔结构的限制，目前常规的2.45GHz设备难以实现超大尺寸金刚石的沉积制备。和2.45GHz微波相比，915 MHz微波波长更长，可以激发出的电场范围更大，等离子体体积更大，更有利于大尺寸金刚石的制备。但915MHz设备存在着价格高昂、稳定性差、舱体结构设计复杂和散热困难等技术难点，这些暂时限制着其大规模应用
金刚石沉积设备
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